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ナノインプリント

新規スタンダード金型：光取出し構造

2014年6月9日 – 08:00

新規スタンダード金型として、有機EL等の光取出し構造として活用頂ける2種類の販売を予定しています。
詳細は、後日リリースしますが、下記のような構造となります。

①正弦波形状の線上格子
DG(1wave)

②正弦波形状の交差格子
四方
その他のマイクロレンズアレイやモスアイ構造などについては、R&D用金型からフィルム転写品のご紹介も可能ですのでお気軽にお問い合わせ下さい。
01ナノインプリント事業部

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ナノインプリント

日経エレクトロニクス3月17日号

2014年3月17日 – 21:00

NikkeiNE日経エレクトロニクス3月17日号にてナノインプリントについての特集が組まれています。「ナノインプリントに新風大面積化で用途も拡大」のテーマで大面積化に焦点を当てた内容になっています。弊社も取材を受け一部記事に取り上げられています。各社のナノインプリントに関する動向が分かりやすく解説されています。

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セミナー ナノインプリント

6月ナノインプリント講演予定

2013年5月23日 – 11:09

会場が変更になりました。

5/21に開催されました電子ジャーナル社主催セミナーに参加いただきまして誠に有難うございました。

6月にもセミナー講演の予定があり、今回は大阪での開催となりますが、ご検討いただければと思います。
6/13(木)にＲ＆Ｄ支援センター主催にて開催されます「有機ＥＬの技術動向と光取り出し向上技術 」セミナーにおきまして、第3部として「ナノインプリントを用いた微細加工技術による有機ELの光取り出し向上」をテーマに講演いたしまします。

日　時：2013年6月13日（木）10:00-16:00
受講料：49,980円 （税込、昼食・資料付き）
会　場：エル大阪　5F　504【大阪・中央区】／地図 
<京阪>地下鉄谷町線「天満橋駅」より西へ300m
<京阪>地下鉄堺筋線「北浜駅」より東へ500m
<地下鉄>御堂筋線「淀屋橋駅」より東へ1,200m
<JR>東西線「大阪天満宮駅」より南へ850m
詳　細：http://www.rdsc.co.jp/seminar/130620.html

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