7月のセミナー講演は加飾フィルム関連で機能性フィルムとナノインプリントフィルムについてを講演する予定となります。大阪での開催となりますが、ご検討いただければと思います。
Ｒ＆Ｄ支援センター主催にて開催されます「プラスチック表面への3次元加飾技術」セミナーにおきまして、第2部として「プラスチック加飾に向けた高機能フィルムの開発」をテーマに講演いたしまします。
日 時：2013年7月10日（水）10:30-16:00
受講料：49,980円 （税込、昼食・資料付き）
会 場：ドーンセンター 4F 大会議室3 【大阪・中央区】／地図
<京阪>「天満橋」駅下車。東口方面の改札から地下通路を通って１番出口より東へ約350m。
<地下鉄谷町線>「天満橋」駅下車。１番出口より東へ約350m。
<JR 東西線>「大阪城北詰」駅下車。２番出口より土佐堀通り沿いに西へ約550m。
詳 細：http://www.rdsc.co.jp/seminar/130726.html
会場が変更になりました。
5/21に開催されました電子ジャーナル社主催セミナーに参加いただきまして誠に有難うございました。
6月にもセミナー講演の予定があり、今回は大阪での開催となりますが、ご検討いただければと思います。
6/13(木)にＲ＆Ｄ支援センター主催にて開催されます「有機ＥＬの技術動向と光取り出し向上技術 」セミナーにおきまして、第3部として「ナノインプリントを用いた微細加工技術による有機ELの光取り出し向上」をテーマに講演いたしまします。
日 時：2013年6月13日（木）10:00-16:00
受講料：49,980円 （税込、昼食・資料付き）
会 場：エル大阪 5F 504【大阪・中央区】／地図
<京阪>地下鉄谷町線「天満橋駅」より西へ300m
<京阪>地下鉄堺筋線「北浜駅」より東へ500m
<地下鉄>御堂筋線「淀屋橋駅」より東へ1,200m
<JR>東西線「大阪天満宮駅」より南へ850m
詳 細：http://www.rdsc.co.jp/seminar/130620.html
4/24(水)・25(木)にサイエンス＆テクノロジー主催にて開催されます「タッチパネル表面のフィルム、コーティング材料・技術の動向 」セミナーにおきまして、4/24の第3部として「反射防止加工フィルムの開発とタッチパネルへの展開」をテーマに講演いたしまします。
日 時：2013年4月24日（水）10:30-16:30
2013年4月25日（木）12:30-16:45
受講料：63,000円 ( S&T会員受講料 59,800円 )
資料・昼食(24日のみ)付
会 場：東京・大田区蒲田 大田区産業プラザ（PiO） 1F A+B会議室／地図
＜京急蒲田線＞ ●「京急蒲田駅」（東口）より徒歩3分
＜ＪＲ京浜東北線＞ ●「蒲田駅」（東口）より徒歩15分
詳 細：http://www.science-t.com/st/cont/id/21166
5/21(火)に電子ジャーナル主催「Electronic Journal 第1711回 Technical Seminar モスアイ型反射防止膜の基礎と応用★徹底解説 ～反射防止膜の各種形成法・大面積化・応用を詳解～」セミナーにおきまして、「大面積モスアイ構造形成技術とその応用」をテーマに講演いたしまします。
日 時：2013年5月21日（火）10:10-16:40
受講料：47,500円（テキスト代/昼食代/消費税含む）
定 員：20名
会 場：連合会館（東京・御茶ノ水）／地図
●JR
JR中央線・総武線 御茶ノ水駅 聖橋出口
●地下鉄
東京メトロ千代田線 新御茶ノ水駅 B3出口
東京メトロ丸の内線 淡路町駅 B3出口
都営地下鉄新宿線 小川町駅 B3出口
詳 細：http://www.electronicjournal.co.jp/t_seminar/1711.html
ブース設営が完了しました。
反射防止機能や光取出し機能についてやナノインプリント金型・フィルムについての課題などありましたら、弊社ブース（小間番号：6H-20)にお立ち寄り下さい。
2013年1月30日(水)～2月1日(金) に東京ビックサイトにて開催されますnano tech 2013の holotools社（6H-20）ブースにて出展します。
ブース位置はドイツパビリオン内ですが、会場フロアMAPにはドイツパビリオン内の詳細の記載がありませんでしたので、詳細MAPを掲載します。
会場フロアMAP： http://www.nanotechexpo.jp/pdf/floormap2013_j.pdf
ドイツパビリオン詳細MAP：
2013年1月30日(水)～2月1日(金) に東京ビックサイトにて開催されます「nano tech 2013 第12回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会」に出展致します。
微細構造付与による機能向上効果などで注目を集めるナノインプリント。弊社イノックスは世界屈指の技術力を有するパートナーと提携し、業界をリードするナノ~マイクロの微細構造研究開発を積極的に行なっております。光の透過率を落さずに光を拡散させる構造、反射防止性能構造、光の集光及び取り出し構造などのモールド大面積化、フィルムやシートの量産化などをご提案。ナノ~マイクロ構造を用い、市場の要求仕様に応えた「コンセプトモデル」の展示を予定しております。
ナノ・マイクロ構造をご検討中、もしくは具体的な要求仕様などございましたら、是非、弊社ブースまでご来場いただき是非ご相談下さい。
2012年2月に当ブログ開設しましたが、多くの方に訪問頂きありがとうございました。ナノインプリントについての記事を掲載させていただきました。来年も引き続きよろしくお願いします。
2013年もnano tech 2013に出展します。今回はドイツのholotools社と共同で出展しますので、場所はドイツパビリオン内となります。お気軽に足をお運びください。
今回の展示会よりビジネスマッチングシステムが設けられることになりました。詳細は下記URLを参照ください。
http://www.nanotechexpo.jp/icsbizmatch_nanotech.html
また、1/25（金）に講演を予定していましたセミナーの開催が確定しました。受講者は引き続き募集しておりますので、参加をご検討下さい。講師紹介割引きのご紹介も可能ですので、弊社までお問い合わせください。
セミナー詳細⇒1月ナノインプリント講演予定
1/25(金)にサイエンス＆テクノロジー主催「反射防止フィルムの設計・要求特性と高機能化技術 ～防汚・耐指紋性・モスアイ技術～」セミナーにおきまして、「モスアイ構造による反射防止フィルムの高機能化技術」をテーマに講演いたしまします。
日 時：2013年1月25日（金）11:00-16:30
受講料：1名47,250円(消費税込、昼食付き・資料付)
*同一法人申し込みの場合複数人割引きあり
会 場：東京・大田区平和島 東京流通センター 2F 第3会議室
＜東京モノレール＞ 「流通センター駅」すぐ
詳 細：http://www.science-t.com/st/cont/id/20752
前回（有機ELの光取出し①）の続きとなります。
モスアイ構造が表面にある場合の光取出しに対する影響についてを説明しますが、今回はその前にモスアイ構造による屈折率変化について触れたいとおもいます。
モスアイ構造による反射防止機能は、「光の波長より小さな構造は、屈折率の変化を緩やかにすることが可能であり、これによって反射を大幅に低減できる。」と説明しています。「屈折率の変化を緩やかにする」とは、光がモスアイ構造を通過している時に屈折率が下図のように変化している状態になります。
変化を緩やかにする状態を多層膜で表現すると下図になります。モスアイ構造を厚み方向に等分して、等分した層の屈折率を空気層と樹脂層の割合から計算します。モスアイ構造の高さが200nmだとすると、50nmの厚みの層が4層あり、屈折率が0.1ずつ増加している層構成となります。
界面の屈折率変化が1.0→1.5となると反射率は4％なのに対し、1.0→1.1だと0.23％となります。（入射角0°の場合）
1.1→1.2、1.2→1.3、1.3→1.4、1.4→1.5の変化でも0.2〜0.1%となります。単純な足し算でも約0.8%となり、段階的な変化による効果は絶大です。（実際には、各層の厚みや波長、反射光の影響が発生します。）
モスアイ構造の反射率へのシミュレーションは、原理的にはこのような方法を用いて計算しています。下図のようにさらに細分化して計算することで、精度を高めることができます。
今回は、計算が簡略にできるので、屈折率の変化が一定である条件で説明しています。直線的な変化ですが、モスアイ構造の形状によっては、直線にならない場合もあります。 反射防止機能で見た場合には、直線的な変化が理想的になるとは限りません。モスアイ構造の高さやターゲットとする波長、樹脂の屈折率等の影響を受けます。
イノックスでは、有機ELの光取出しに関連するナノインプリント金型やフィルムサンプル（基材：PET、ガラスなど）を取り扱っております。どうぞお気軽にお問い合わせください。
