Tag Archives: ナノインプリント

ナノインプリント

スタンダードモスアイ金型解説その3

スタンダードモスアイ金型解説その1
スタンダードモスアイ金型解説その2 

間隔が開いてしまいましたが、今回はスタンダードモスアイ金型の個数についてです。

     

スタンダードモスアイ金型のHT-AR-05Aでは、ピッチ250nm、ピーク間距離290nmでハニカム構造の配列を取っています。この場合の一つの六角形の面積は0.0725µ㎡と計算することができます。

○1mm角の正方形に敷き詰めたとすると…
13,793,103個(約1,380万個)= 東京都の人口(1,322万人)とほぼ同じ

○1cm角の正方形に敷き詰めたとすると…
1,379,310,300個(13.8億個)= 日本の総人口(1.3億人)の10倍

○スタンダード金型HT-AR-05A(10cm x 10cm)上にあるモスアイ構造の数は…
137,931,030,000個(1,380億個)= 人間の脳のニューロンの推定数(1,000億個)よりも多い

有効範囲が280mm角のHT-AR-05Cまで行くと1兆個を超える計算になります。
干渉リソグラフィ工法にでは、この様な膨大な個数のモスアイ構造を一括にかつ均一に描画できるのが大きな特徴です。

セミナー ナノインプリント 機能性フィルム

7月ナノインプリント講演予定

7月のセミナー講演は加飾フィルム関連で機能性フィルムとナノインプリントフィルムについてを講演する予定となります。大阪での開催となりますが、ご検討いただければと思います。

R&D支援センター主催にて開催されます「プラスチック表面への3次元加飾技術」セミナーにおきまして、第2部として「プラスチック加飾に向けた高機能フィルムの開発」をテーマに講演いたしまします。

日 時:2013年7月10日(水)10:30-16:00
受講料:49,980円 (税込、昼食・資料付き)
会 場:ドーンセンター 4F 大会議室3 【大阪・中央区】/地図
<京阪>「天満橋」駅下車。東口方面の改札から地下通路を通って1番出口より東へ約350m。
<地下鉄谷町線>「天満橋」駅下車。1番出口より東へ約350m。
<JR 東西線>「大阪城北詰」駅下車。2番出口より土佐堀通り沿いに西へ約550m。
詳 細:http://www.rdsc.co.jp/seminar/130726.html

セミナー ナノインプリント

4月ナノインプリント講演予定

4/24(水)・25(木)にサイエンス&テクノロジー主催にて開催されます「タッチパネル表面のフィルム、コーティング材料・技術の動向 」セミナーにおきまして、4/24の第3部として「反射防止加工フィルムの開発とタッチパネルへの展開」をテーマに講演いたしまします。

日 時:2013年4月24日(水)10:30-16:30
2013年4月25日(木)12:30-16:45
受講料:63,000円   ( S&T会員受講料   59,800円 )
資料・昼食(24日のみ)付
会 場:東京・大田区蒲田 大田区産業プラザ(PiO)  1F A+B会議室/地図
<京急蒲田線> ●「京急蒲田駅」(東口)より徒歩3分
<JR京浜東北線> ●「蒲田駅」(東口)より徒歩15分
詳 細:http://www.science-t.com/st/cont/id/21166

 

セミナー ナノインプリント

5月ナノインプリント講演予定

5/21(火)に電子ジャーナル主催「Electronic Journal 第1711回 Technical Seminar モスアイ型反射防止膜の基礎と応用★徹底解説 ~反射防止膜の各種形成法・大面積化・応用を詳解~」セミナーにおきまして、「大面積モスアイ構造形成技術とその応用」をテーマに講演いたしまします。

日 時:2013年5月21日(火)10:10-16:40
受講料:47,500円(テキスト代/昼食代/消費税含む)
定 員:20名
会 場:連合会館(東京・御茶ノ水)/地図
●JR
JR中央線・総武線 御茶ノ水駅 聖橋出口
●地下鉄
東京メトロ千代田線 新御茶ノ水駅 B3出口
東京メトロ丸の内線 淡路町駅   B3出口
都営地下鉄新宿線  小川町駅   B3出口
詳 細:http://www.electronicjournal.co.jp/t_seminar/1711.html

 

ナノインプリント 展示会

nano tech 2013

弊社ブースにお立ち寄りいただき、誠にありがとうございました。
皆様のおかげをもちまして盛況のうちに執り行うことができましたことを心よりお礼申し上げます。

新たな光取出し構造のスタンダード化も検討しておりますので、詳細が決まりましたらご案内致します。
また、5月頃にモスアイに関するセミナー講演を予定しています。こちらも詳細が決まりましたらご案内致します。

ナノインプリント 展示会

nano tech 2013前日


ブース設営が完了しました。
反射防止機能や光取出し機能についてやナノインプリント金型・フィルムについての課題などありましたら、弊社ブース(小間番号:6H-20)にお立ち寄り下さい。

 

ナノインプリント 展示会

nano tech 2013出展のお知らせ②

2013年1月30日(水)~2月1日(金) に東京ビックサイトにて開催されますnano tech 2013の holotools社(6H-20)ブースにて出展します。
ブース位置はドイツパビリオン内ですが、会場フロアMAPにはドイツパビリオン内の詳細の記載がありませんでしたので、詳細MAPを掲載します。

会場フロアMAP: http://www.nanotechexpo.jp/pdf/floormap2013_j.pdf

ドイツパビリオン詳細MAP:

ナノインプリント 展示会

nano tech 2013出展のお知らせ

2013年1月30日(水)~2月1日(金) に東京ビックサイトにて開催されます「nano tech 2013 第12回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会」に出展致します。

  • 日時:2013年1月30日(水) ~2月1日(金) 10:00 ~ 17:00
  • 会場:東京ビッグサイト東4・5・6ホール&会議棟
  • 入場料:3,000円(但し、Webサイトで事前登録された方は入場無料)
  • 公式ホームページ:http://www.nanotechexpo.jp/
  • 弊社ブース:東6ホール ドイツパビリオン内 6H-20
    ※ブース位置の詳細はちら

出展のみどころ

微細構造付与による機能向上効果などで注目を集めるナノインプリント。弊社イノックスは世界屈指の技術力を有するパートナーと提携し、業界をリードするナノ~マイクロの微細構造研究開発を積極的に行なっております。光の透過率を落さずに光を拡散させる構造、反射防止性能構造、光の集光及び取り出し構造などのモールド大面積化、フィルムやシートの量産化などをご提案。ナノ~マイクロ構造を用い、市場の要求仕様に応えた「コンセプトモデル」の展示を予定しております。

ナノ・マイクロ構造をご検討中、もしくは具体的な要求仕様などございましたら、是非、弊社ブースまでご来場いただき是非ご相談下さい。

 

ナノ・マイクロ構造

  • 反射防止機能(モスアイ構造)
  • マイクロレンズ構造
  • 有機EL光取出し効率向上
  • 太陽電池集光効率向上
  • ライトガイド・プレート
  • カスタマイズ設計構造
セミナー ナノインプリント 展示会

2013年1月の展示会・セミナー

2012年2月に当ブログ開設しましたが、多くの方に訪問頂きありがとうございました。ナノインプリントについての記事を掲載させていただきました。来年も引き続きよろしくお願いします。

 

2013年もnano tech 2013に出展します。今回はドイツのholotools社と共同で出展しますので、場所はドイツパビリオン内となります。お気軽に足をお運びください。
今回の展示会よりビジネスマッチングシステムが設けられることになりました。詳細は下記URLを参照ください。
http://www.nanotechexpo.jp/icsbizmatch_nanotech.html

 

また、1/25(金)に講演を予定していましたセミナーの開催が確定しました。受講者は引き続き募集しておりますので、参加をご検討下さい。講師紹介割引きのご紹介も可能ですので、弊社までお問い合わせください。
セミナー詳細⇒1月ナノインプリント講演予定

ナノインプリント

有機ELの光取出し③

前回(有機ELの光取出し②)の続きとなります。

前回は、モスアイ構造による段階的な屈折率変化について解説を行いました。それを踏まえて、モスアイ構造による『臨界角』への影響を説明します。モスアイ構造による反射率低減のメカニズムは、『屈折率が徐々に増加していく多層膜』として説明しました。臨界角についてもこの『屈折率が徐々に増加していく多層膜』として置き換えて、モスアイによる影響を説明します。

 


臨界角とは射出角が90°となる角度で、入射角が臨界角以上の場合は全反射が発生することを前々回(有機ELの光取出し①)で説明しました。
屈折率の差がわずかでもあれば、計算式より臨界角は存在することになります。屈折率の差が0.001であったとしても、臨界角は87.4°となり、87.4°より大きな角度の入射角の光は、空気中へ抜け出せないことになります。

 


次に、もう1層追加された場合を説明します。各層の界面では、n=1.1と空気の界面では臨界角が65.4°、n=1.2とn=1.1の界面では臨界角が66.4°となります。n=1.2からn=1.1への媒質へ入ることができた光は、空気との界面で全反射する成分があるため、全てが透過できるわけではありません。
n=1.1と空気層の臨界角θ1より、n=1.2とn=1.1の界面での出射角θ4が大きい場合には、全反射が発生し透過できなくなります。一方、出射角θ4が臨界角θ1より小さな場合は、透過できることになります。
この2層のケースでは、入射角θ3の空気層まで透過する臨界角は、n=1.2とn=1.1の界面での臨界角に比べ小さくなります。つまり、θ3の臨界角は上層の臨界角に支配されることとなります。

 


最後にモスアイ構造の場合ですが、『屈折率が徐々に増加していく多層膜』ですので2層でのケースに層を足していった状態となります。考え方は同じで上層の臨界角によって下層の臨界角が決まっていきます。
通常の臨界角の計算では出射角を90°として計算しますが、層中での臨界角は出射角を上層の臨界角に設定して計算します。5層のケースでは最終的に臨界角は41.8°となり、屈折率1.5の単層と空気層の界面の臨界角と一致します。
層数を100層や1000層に細分化したとしても、臨界角は同じ計算結果となります。滑らかな屈折率変化が起きるモスアイ構造においても同様の現象が起きていると考えられます。

結論としては、モスアイ構造が最表面にあったとしても、臨界角は変化しないことになります。

 

イノックスでは、有機ELの光取出しに関連するナノインプリント金型やフィルムサンプル(基材:PET、ガラスなど)を取り扱っております。どうぞお気軽にお問い合わせください。