Category Archives: ナノインプリント

ナノインプリント

モスアイ構造のシミュレーション

モスアイ開発品の反射率シミュレーションの例を紹介します。モスアイ開発品は、表面に200から300ナノメーターサイズの微細な凹凸を持つことで、光の反射を制御し、更に干渉色を抑えることができます。

反射率シミュレーションとは、モスアイ開発品の表面形状の条件をコンピュータ上で設定し、反射及び透過光の強度を予測することです。反射率シミュレーションは、モスアイ開発品のデザインに役立ちます。

ここでは、モスアイ開発品の反射率シミュレーションの例と近いパラメーターをインプリントした反射率の測定結果との比較とともにご覧ください。

シミュレーション結果
モスアイ構造をインプリントしたフィルムの測定結果

このように、モスアイ開発品の反射率シミュレーションは、凹凸の深さやサイズのパラメーターが異なる設計では、反射率の波長分布がどのように変化するかを見ることができます。約400ナノメートルから800ナノメートルの可視光領域での反射率が小さければ、光の反射による損失が少なく、光線透過率が高くなります。特に人間の目にとって最も明るく感じる波長である550ナノメートルでの反射率の大きさは、反射防止特性を判断するのに重要な指標となります。

モスアイ構造による反射防止の特徴として、全体的に反射率を抑制できることがあります。その傾向はシミュレーション結果とフィルムの測定結果にも反映されています。

設計Aと設計Bは、非常に似たパターンを有していますが、構造の高さや間隔などが異なる設計となっています。パラメーターの違いは僅かですが、グラフが横方向にシフトする様子が確認できます。可視光の反射防止を目的とする場合、550ナノメートルの波長での反射防止効果が高い設計Aが優位と言えます。700ナノメートル以上の高い波長域の反射防止特性を重視する場合には、設計Bが優位と言えます。

シミュレーション結果が実際のフィルムとの結果に高い相関性を持たせることができております。シミュレーションは、薄膜技術の有力なツールです。ぜひ、ご活用ください。

カスタマイズ金型 ナノインプリント 機能性フィルム

マイクロレンズ形状の精度向上

従来工法からの改良


レンチキュラーレンズなどの単純な形状からマイクロレンズアレイなどの複雑形状に対応する為に加工方法の改良を行っております。従来では、粗い階段構造からの加工にて構造を得ていましたが、工法の改良により複雑形状にも対応が可能となりました。

新工法の改良①


新工法の導入開発として、知見を積み重ねることで高い精度での設計の再現を再現することができました。再現性の追求と同時に、カスタマイズ設計の自由度を高める取り組みとして、構造高さを増加させることにも取り組み、25µmの限界高さから50µmの限界高さへの改良も行っています。

再現性が高まることで、周期的な歪みが新たな課題となってきました。

新工法の改良②


周期的な歪みは、大きなレンズではレンズ内に複数のスジが入り込むので、課題となっておりました。更なる開発を進めた結果、歪みを解消することが可能となりました。

これらの開発により、設計データにより近い微細構造の作成が可能となっております。

ナノインプリント 機能性フィルム 裸眼3D

カスタマイズ微細構造加工サービス

カスタマイズ微細構造加工サービスのページを更新しました。

ナノインプリント

カスタマイズモールドサービスを開始

独自工法の開発により自由な設計の構造の作製が可能となりました。マイクロレンズアレイやレンチキュラーレンズをはじめ、球面形状から非球面形状まで幅広い設計が可能です。

◆パターン形状

球面レンズ:曲率に合わせたパターンを高い再現性にて加工が可能です。

非球面レンズ:数式に変換できる球面形状やCADデータ、XYZ座標データからの加工も承っております。デザインの詳細については、お気軽にお問い合わせください。

凹形状:レンズなどの形状の反転形状である凹形状の加工も可能です。

◆アレイパターン

設計されたレンズ形状を様々な形式で配置することが可能です。

格子状アレイ: 正方形格子や長方形格子などの変更も可能です。

ハニカム状アレイ:六方格子状に配置することも可能で、正六角形に限らず縦横の比率の異なる配置も可能です。

ランダムアレイ:格子状やハニカム状を基にレンズの中心位置をランダムに配置することも可能です。ランダムの分散性のカスタマイズも可能です。

◆仕様

  • マスター材料:フォトレジスト
  • 構造サイズ:1μm~1mm
  • 構造高さ:1μm~30μm
  • パターン面積:最大127mm x 127mm ※構造によって最大サイズは異なります。
  • モールド材料:ニッケル、フォトレジスト、樹脂

この他にも希望される構造に合わせてカスタマイズ可能ですので、お気軽にお問い合わせ下さい。

01ナノインプリント事業部
ナノインプリント プレスリリース 機能性フィルム

【プレスリリース】スマートフォン向け裸眼3Dフィルムの販売及びサービスの提供を開始

 株式会社イノックス(本社:愛知県名古屋市、社長:白浜 龍男、以下、イノックス)は、3Dフィルムの製造・販売を手掛けるNanoveu Pte Ltd(本社:シンガポール、CEO:Alfred Chong、以下、Nanoveu)と共同開発した、スマートフォン向け裸眼3Dフィルムの販売及びサービスの提供を2019年5月より正式に開始します。

 本製品は、特殊なパターンを付けた液晶保護フィルムと独自の専用アプリを組み合わせて眼鏡なしで3D動画や画像を体験できる3Dフィルムです。特殊なパターンによって、右目と左目へとそれぞれ違った映像を送ることができ、この時の左右の目に映る画像の差によって立体的に見ることができる仕組みです。専用アプリでは、Youtubeなどで公開されている3D用に作られた動画(※1)を変換することで、眼鏡なしで3Dを体験することが可能です。さらに、カメラで撮影した画像を簡単に3D画像に加工することもできます。

 従来の3Dフィルムでは、細かな文字が見えにくくなるなど通常使用時の視認性の低下が課題でしたが、イノックスが培ってきたナノインプリント技術(※2)により、パターンの最適化の開発に成功しました。さらに、Nanoveuの持つ画像処理技術と組み合わせることで、視認性の課題の克服に成功しました。また、従来では表面に出ていたパターンを独自設計により、内包させることにも成功しており、鉛筆硬度9Hの硬さを有する液晶保護の機能も有しています。

 Nanoveuでは、3Dフィルム専用のソフトウェア開発キット(SDK)の提供も開始しており、既存のゲームやアプリに組み込むことで簡単に3Dフィルムに対応させることも可能です。

 本サービスでは、これまで培われた技術の組み合わせにより、お客様の製品に合わせたカスタマイズが可能で、スマートフォンだけに留まらず、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイを持つデジタルサイネージやゲーム機、アミューズメント遊技機などの製品や用途に合わせて幅広く応用することが可能です。

※1 3D用に作られた動画とは、既存の3Dテレビ向けに作られた左目用と右目用に分割された動画です。サイドバイサイド方式とも呼ばれます。

※2 ナノインプリント技術とは、マイクロやナノメートルサイズの微細な構造を持つ金型を用いて樹脂に金型の形状を複製する微細加工技術です。一例として、生体模倣技術で見出された蛾の目の構造を応用することで、表面反射や映り込みを抑制することができます。

■ 3Dフィルムの特徴

・裸眼3D機能

特殊なパターンを持つ液晶保護フィルムと独自アプリにより眼鏡なしで3D動画を体験可能

・液晶保護機能

通常使用時の視認性の向上及びガラス液晶保護フィルムとの組合せで9Hの鉛筆硬度を有する

・SDKの提供

既存もしくは新規のゲームやアプリに組み込むことで簡単に3Dフィルムに対応可能

・カスタイマイズ性

ディスプレイの表示方式(液晶・有機EL)に関わらず、3D表示機能の付与が可能

■ 販売3Dフィルム対応機種

iPhoneシリーズ(iPhone X, iPhone XS, iPhone XS Max)

他機種順次対応予定

■ カスタマイズサービス対応用途

ディスプレイ表示機能を有する製品全般

スマートフォン/ディスプレイ/デジタルサイネージ/携帯ゲーム機/アミューズメント遊技機等

■ 株式会社イノックスについて

株式会社イノックスは、研究開発型ベンチャー企業です。 長年培った機能性フィルムの開発・加工の技術ノウハウを駆使し、ナノインプリント事業を立ち上げ、現在ナノ・マイクロパターンの光学特性を持つフィルムの量産化を目指しています。中小企業でありながら、世界屈指の技術を保有する技術パートナーと提携する事により、業界をリードするイノベイティブな開発を積極的に行っています。

■ このプレスリリースに関するお問い合わせ

株式会社イノックス

〒460-0002 愛知県名古屋中区丸の内2-12-15 勝川ビル2F

担当:機能性フィルム開発 井上

TEL:052-202-1115 / FAX:052-253-6663

E-MAIL: tomoharu.inoue@innox.co.jp

セミナー ナノインプリント

【2019/5/21】ナノインプリント講演予定

2019年5月21日に技術情報協会主催にて開催されます「透明材料,光学材料などの屈折率制御におけるメカニズム,複合化や表面改質,測定評価」セミナーにおきまして、「微細凹凸構造 光学フィルムの屈折率制御」をテーマに講演いたしまします。

【講演の主旨】 ナノインプリントとは、ナノサイズの構造を持った金型から樹脂に構造を転写する技術であり近年注目を集めている。構造がナノサイズになると可視光の波長より小さくなることにより、例えばモスアイ構造のような反射防止効果を発揮する事が可能となる。本セミナーでは、モスアイ構造による屈折率制御と反射防止機能について紹介し、ナノインプリントの量産化の要素となる金型や加工方法等についても解説する。

【セミナー詳細】
題 名:透明材料,光学材料などの屈折率制御におけるメカニズム,複合化や表面改質,測定評価
主 催:技術情報協会
講 師:6名
日 時:2019年5月20日(月)10:30~16:50
    2019年5月21日(火)10:00~16:50
受講料:1名につき70,000円(消費税抜,昼食(2日間)・資料付)
    ※講師からの紹介割引として、20%割引も可能ですのでお問い合わせ下さい。
会 場:[東京・五反田]日幸五反田ビル8F
    技術情報協会セミナールーム/地図
    <JR山手線>五反田駅 徒歩5分
    <都営地下鉄・浅草線>五反田駅 徒歩5分
    <東急池上線>大崎広小路駅 徒歩5分
詳 細:http://www.gijutu.co.jp/doc/s_905203.htm

本セミナーのマイクロレンズアレイやモスアイ構造などについては、R&D用金型からフィルム転写品のご紹介も可能ですのでお気軽にお問い合わせ下さい。

セミナー ナノインプリント

日程変更【2014/9/2】ナノインプリント講演予定

【2014/7/11】ナノインプリント講演予定
7月11日に開催予定でしたが、主催社の都合により9月2日に変更となりました。

日 時:2014年9月2日(火)13:30~16:50
受講料:39,800円(テキスト代/喫茶代/消費税含む)
会 場:連合会館(東京・御茶ノ水)/地図
<東京メトロ・千代田線>「新御茶ノ水」駅下車。 B3出口(徒歩0分)
<東京メトロ・丸ノ内線>「淡路町」駅下車。B3出口 (B3出口まで徒歩5分)
<都営地下鉄・新宿線>「小川町」駅下車。B3出口 (B3出口まで徒歩3分)
<JR中央線・総武線>「御茶ノ水」駅下車。 聖橋口(徒歩5分)
定 員:30名
詳 細:http://www.electronicjournal.co.jp/t_seminar/2314.html
本セミナーのマイクロレンズアレイやモスアイ構造などについては、R&D用金型からフィルム転写品のご紹介も可能ですのでお気軽にお問い合わせ下さい。
01ナノインプリント事業部

ナノインプリント

新規スタンダード金型:光取出し構造

新規スタンダード金型として、有機EL等の光取出し構造として活用頂ける2種類の販売を予定しています。
詳細は、後日リリースしますが、下記のような構造となります。

①正弦波形状の線上格子
DG(1wave)

②正弦波形状の交差格子
四方
その他のマイクロレンズアレイやモスアイ構造などについては、R&D用金型からフィルム転写品のご紹介も可能ですのでお気軽にお問い合わせ下さい。
01ナノインプリント事業部

ナノインプリント

生体模倣技術について

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【2014/7/11】ナノインプリント講演予定

先日のセミナー講演予定ですが、テーマが「生体模倣・その効果とデバイス/フィルムへの応用」であり、生体模倣が一つのキーワードとなっています。
今月12日の中日新聞にて生体模倣技術(バイオミメティクス)についての記事が出ていたのを思い出し掲載しました。記事によると生体模倣技術については、海外(アメリカ、ドイツ、フランス)では産学官連携の機関が作られているが、日本にはまだ作られていないとのことです。そこで日本でも機関を設立する動きが出てきたようです。
弊社で扱っているモスアイ構造も蛾の目を生体模倣した構造となっおり、目が離せない業界の動きとなっています。

 
モスアイ構造などについては、R&D用金型からフィルム転写品のご紹介も可能ですのでお気軽にお問い合わせ下さい。
01ナノインプリント事業部

セミナー ナノインプリント

【2014/7/11】ナノインプリント講演予定

7月11日に電子ジャーナル主催にて開催されます「Electronic Journal 第2314回 Technical Seminar」セミナーにおきまして、「生体模倣・その効果とデバイス/フィルムへの応用」をテーマに講演いたしまします。

日 時:2014年7月11日(金)13:30~16:50
受講料:39,800円(テキスト代/喫茶代/消費税含む)
会 場:連合会館(東京・御茶ノ水)/地図
<東京メトロ・千代田線>「新御茶ノ水」駅下車。 B3出口(徒歩0分)
<東京メトロ・丸ノ内線>「淡路町」駅下車。B3出口 (B3出口まで徒歩5分)
<都営地下鉄・新宿線>「小川町」駅下車。B3出口 (B3出口まで徒歩3分)
<JR中央線・総武線>「御茶ノ水」駅下車。 聖橋口(徒歩5分)
定 員:30名
詳 細:http://www.electronicjournal.co.jp/t_seminar/2314.html

 
本セミナーのマイクロレンズアレイやモスアイ構造などについては、R&D用金型からフィルム転写品のご紹介も可能ですのでお気軽にお問い合わせ下さい。
01ナノインプリント事業部